365外贸网
| HS编码 | 品名 | 退税率 | 计量单位 | 海关监管 | 实例|申报要素 | 编码对比 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 84861010.00 | 利用温度变化处理单晶硅的机器及装置
(利用温度变化处理单晶硅的机器及装置制造单晶柱或晶圆用的) |
13% | 台/千克 | 22条 | -- | |
| 84861020.00 | 制造单晶柱或晶圆用的研磨设备
(制造单晶柱或晶圆用的研磨设备) |
13% | 台/千克 | 35条 | 对比-84861010.00 | |
| 84861030.00 | 制造单晶柱或晶圆用的切割设备
(制造单晶柱或晶圆用的切割设备) |
13% | 台/千克 | 70条 | 对比-84861020.00 | |
| 84861040.00 | 制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP)
(制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP)) |
13% | 台/千克 | 14条 | 对比-84861030.00 | |
| 84861090.00 | 其他制造单晶柱或晶圆用的机器及装置
(其他制造单晶柱或晶圆用的机器及装置) |
13% | 台/千克 | 60条 | 对比-84861040.00 | |
| 84862010.00 | 氧化、扩散、退火及其他热处理设备
(氧化、扩散、退火及其他热处理设备制造半导体器件或集成电路用的) |
13% | 台/千克 | 59条 | 对比-84861090.00 | |
| 84862021.00 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
(制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置化学气相沉积装置(CVD)) |
13% | 台/千克 | 32条 | 对比-84862010.00 | |
| 84862022.00 | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
(制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置物理气相沉积装置(PVD)) |
13% | 台/千克 | 26条 | 对比-84862021.00 | |
| 84862029.00 | 其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
(其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备) |
13% | 台/千克 | 22条 | 对比-84862022.00 | |
| 84862031.00 | 制造半导体器件或集成电路用分步重复光刻机
(制造半导体器件或集成电路用分步重复光刻机步进光刻机) |
13% | 台/千克 | 无 | 10条 | 对比-84862029.00 |
| 84862031.10 | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（后道用）
(制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（后道用）) |
13% | 台/千克 | 0条 | 对比-84862031.00 | |
| 84862031.20 | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用 I 线光刻机）
(制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用 I 线光刻机）) |
13% | 台/千克 | 0条 | 对比-84862031.10 | |
| 84862031.30 | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用氟化氪（ KrF ）光刻机）
(制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用氟化氪（ KrF ）光刻机）) |
13% | 台/千克 | 0条 | 对比-84862031.20 | |
| 84862031.90 | 其他制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机
(其他制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机) |
13% | 台/千克 | 0条 | 对比-84862031.30 | |
| 84862039.00 | 其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置
(其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置制造半导体器件或集成电路用的) |
13% | 台/千克 | 无 | 49条 | 对比-84862031.90 |
| 84862039.10 | 制造半导体器件或集成电路用的 I 线光刻机（步进式除外）
(制造半导体器件或集成电路用的 I 线光刻机（步进式除外）) |
13% | 台/千克 | 0条 | 对比-84862039.00 | |
| 84862039.20 | 制造半导体器件或集成电路用的氟化氪（ KrF ）光刻机（步进式除外）
(制造半导体器件或集成电路用的氟化氪（ KrF ）光刻机（步进式除外）) |
13% | 台/千克 | 0条 | 对比-84862039.10 | |
| 84862039.30 | 制造半导体器件或集成电路用的氟化氩（ ArF ）光刻机（步进式除外）
(制造半导体器件或集成电路用的氟化氩（ ArF ）光刻机（步进式除外）) |
13% | 台/千克 | 0条 | 对比-84862039.20 | |
| 84862039.40 | 制造半导体器件或集成电路用的氟化氩浸没式（ ArFi ）光刻机（步进式除外）
(制造半导体器件或集成电路用的氟化氩浸没式（ ArFi ）光刻机（步进式除外）) |
13% | 台/千克 | 0条 | 对比-84862039.30 | |
| 84862039.50 | 制造半导体器件或集成电路用的极紫外（ EUV ）光刻机（步进式除外）
(制造半导体器件或集成电路用的极紫外（ EUV ）光刻机（步进式除外）) |
13% | 台/千克 | 0条 | 对比-84862039.40 |