商品编码 84862021.00  
商品名称 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
商品描述 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置化学气相沉积装置(CVD)
英文名称 Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis
CIQ代码(13位海关编码)
HS编码 商品信息
8486202100.999 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD))