| 商品编码 | 84862021.00 |
| 商品名称 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 |
| 商品描述 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置化学气相沉积装置(CVD) |
| 英文名称 | Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis |
CIQ代码(13位海关编码)
| HS编码 | 商品信息 |
|---|---|
| 8486202100.999 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD)) |
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