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| 商品编码 | 84862022.00 |
| 商品名称 | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 |
| 商品描述 | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置物理气相沉积装置(PVD) |
| 英文名称 | Physical Vapour Deposition(PVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis |
CIQ代码(13位海关编码)
| HS编码 | 商品信息 |
|---|---|
| 8486202200.999 | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置(物理气相沉积装置(PVD)) |