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您查询的相关hs编码 14 条,您的查询关键词 光刻机
| HS编码 | 品名 | 实例汇总 | 申报要素·退税 | 编码比对 |
|---|---|---|---|---|
| 84862031.00
(已作废)
推荐查询: 84862031 |
制造半导体器件或集成电路用分步重复光刻机
(制造半导体器件或集成电路用分步重复光刻机步进光刻机) [Step and repeat aligners for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis] |
10条 | 查看详情 | -- |
| 84863031.00 | 制造平板显示器用分步重复光刻机
(制造平板显示器用分步重复光刻机) [Step and repeat aligners for the manufacture of flat panel displays] |
1条 | 查看详情 | 对比-84862031.00 |
| 84862031.10 | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（后道用）
(制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（后道用）) [Distributed repetitive lithography machine for manufacturing semiconductor devices or integrated circuits (for post-processing)] |
0条 | 查看详情 | 对比-84863031.00 |
| 84862031.30 | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用氟化氪（ KrF ）光刻机）
(制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用氟化氪（ KrF ）光刻机）) [Distributed repetitive lithography machine for manufacturing semiconductor devices or integrated circuits (KrF lithography machine for front-end)] |
0条 | 查看详情 | 对比-84862031.10 |
| 84862031.20 | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用 I 线光刻机）
(制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用 I 线光刻机）) [Distributed Repeat Lithography Machine for Manufacturing Semiconductor Devices or Integrated Circuits (I-line Lithography Machine for Front Processing)] |
0条 | 查看详情 | 对比-84862031.30 |
| 84862031.90 | 其他制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机
(其他制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机) [Distributed repetitive lithography machines for manufacturing other semiconductor devices or integrated circuits] |
0条 | 查看详情 | 对比-84862031.20 |
| 85393240.20 | 税目84.86项下光刻设备用超高压汞灯
(光刻机用高压汞灯（功率≥1千瓦）) [High pressure mercury lamp for lithography machine (power ≥ 1 kW)] |
0条 | 查看详情 | 对比-84862031.90 |
| 90328990.93 | 光刻机用电机控制器
(光刻机用电机控制器) [Motor controller for lithography machine] |
0条 | 查看详情 | 对比-85393240.20 |
| 90138090.10 | 光刻机用光斑调节装置
(光刻机用光斑调节装置90章其他品目未列名的) [Spot adjustment device for lithography machine] |
0条 | 查看详情 | 对比-90328990.93 |
| 84862039.30 | 制造半导体器件或集成电路用的氟化氩（ ArF ）光刻机（步进式除外）
(制造半导体器件或集成电路用的氟化氩（ ArF ）光刻机（步进式除外）) [Argon fluoride (ArF) lithography machines for manufacturing semiconductor devices or integrated circuits (excluding stepper)] |
0条 | 查看详情 | 对比-90138090.10 |
| 84862039.20 | 制造半导体器件或集成电路用的氟化氪（ KrF ）光刻机（步进式除外）
(制造半导体器件或集成电路用的氟化氪（ KrF ）光刻机（步进式除外）) [Krypton fluoride (KrF) lithography machines used for manufacturing semiconductor devices or integrated circuits (excluding stepper)] |
0条 | 查看详情 | 对比-84862039.30 |
| 84862039.50 | 制造半导体器件或集成电路用的极紫外（ EUV ）光刻机（步进式除外）
(制造半导体器件或集成电路用的极紫外（ EUV ）光刻机（步进式除外）) [Extreme Ultraviolet (EUV) lithography machines for manufacturing semiconductor devices or integrated circuits (excluding stepper)] |
0条 | 查看详情 | 对比-84862039.20 |
| 84862039.40 | 制造半导体器件或集成电路用的氟化氩浸没式（ ArFi ）光刻机（步进式除外）
(制造半导体器件或集成电路用的氟化氩浸没式（ ArFi ）光刻机（步进式除外）) [ArFi immersion lithography machines for manufacturing semiconductor devices or integrated circuits (excluding stepper lithography)] |
0条 | 查看详情 | 对比-84862039.50 |
| 84862039.10 | 制造半导体器件或集成电路用的 I 线光刻机（步进式除外）
(制造半导体器件或集成电路用的 I 线光刻机（步进式除外）) [I-line lithography machine for manufacturing semiconductor devices or integrated circuits (excluding stepper type)] |
0条 | 查看详情 | 对比-84862039.40 |
申报实例查询结果
| HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
|---|---|---|
| 90022090.00 | 滤光镜 | (光刻机用,NIKON,已装配)(4G680-520AN) |
| 90022090.00 | 滤光镜 | (光刻机用,品牌NIKON,已装配)(4G055-022AN) |
| 84289090.90 | 机械手臂 | 用于激光光刻机上，主要作用是物料传送|MICRONIC |
| 85044014.00 | 电源箱 | 用于半导体激光光刻机设备上，起供电稳压作用|直流稳压电 |
| 90021990.90 | 光刻机用镜头 | 光刻机用,适用机型：PAS5500/750E|已装配 |
| 90029090.02 | 掩膜版 | 光刻机用|已装配|无品牌|TMEJ61|无其他 |
| 90029090.02 | 掩模版，集成电路光刻机，已装配 | 7英寸，TOPPAN，石英玻璃>99%，金属铬<1% |
| 90029090.02 | 掩模版 | 集成电路光刻机用|已装配|TOPPAN|7英寸，石英玻 |
| 90029090.90 | 掩模版，集成电路光刻机，已装配 | 7英寸，TOPPAN，石英玻璃>99%，金属铬<1% |
| 90105022.00 | 光刻机 | MDA-400M |
| 90138090.00 | 光束调节器 | 用在光刻机上面,放在机台的主光路位置,对光束起到控制和调节作 |
| 90139010.00 | 准分子激光腔 | IX-3000型号的激光光刻机激光器上用|无品牌|无型 |
| 90139010.00 | 激光器气体控制模块 | IX-3000型号的激光光刻机激光器上用|无品牌|无型 |
| 90275000.00 | 光强仪（旧） | 紫外线照射原理|测量汞灯光强度|光刻机|OAI|358 |
| 84869099.00 | 光学频宽压缩模块 | 光刻机专用,激光反射筛选功能|无品牌|E143731型 |