| 商品编码 |
84862022.00
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| 商品名称 |
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 |
| 商品描述 |
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置物理气相沉积装置(PVD) |
| 英文名称 |
Physical Vapour Deposition(PVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis |
HS编码 84862022.00 申报实例信息,收录数 26 条
| HS编码
| 商品名称
| 商品规格
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| 84862022.00 |
半导体行业用金属溅射设备 |
(UNITEDVISIONMARK50) |
| 84862022.00 |
物理气相沉积设备/在硅片表面 |
(Celsior) |
| 84862022.00 |
金属蒸镀机用金属镀锅 |
安装在金属蒸镀机上,装载2吋延片用,并会旋转,使2吋外 |
| 84862022.00 |
介质膜蒸镀机上的镀锅 |
安装在金属蒸镀机上,装载2吋延片用,并会旋转,使2吋外 |
| 84862022.00 |
镀膜机用晶片盖板 |
安装在金属镀锅上,以使固定外延片|安装在金属镀锅上,以 |
| 84862022.00 |
物理气相沉积仪 |
HTMOA07 |
| 84862022.00 |
二氧化碳发泡机 |
用于控制,保证塑模的质量,RC-2000AC17 |
| 84862022.00 |
电子束镀膜机（物理气相沉积装置） |
EXPLORER |
| 84862022.00 |
电子束蒸发台 |
Peva-900E |
| 84862022.00 |
等静压机 |
CH860B |
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