| 商品编码 |
84862021.00
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| 商品名称 |
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 |
| 商品描述 |
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置化学气相沉积装置(CVD) |
| 英文名称 |
Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis |
HS编码 84862021.00 申报实例信息,收录数 32 条
| HS编码
| 商品名称
| 商品规格
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| 84862021.00 |
金属有机物化学气相沉淀炉 |
(ICCCS19X2/生产半导体晶片用) |
| 84862021.00 |
化学气相沉积设备 |
(旧)(制作半导体专用) |
| 84862021.00 |
化学气相沉积设备/NOVELLUS/在 |
(D15498A) |
| 84862021.00 |
金属有机物化学气相沉积设备 |
D-180 |
| 84862021.00 |
金属有机源气相沉积设备 |
D300 |
| 84862021.00 |
镀膜机 |
COATING MACHINE |
| 84862021.00 |
化学气相沉积设备/WJ牌 |
WJ999 |
| 84862021.00 |
射频等离子增强化学气相沉积系统 |
P600 |
| 84862021.00 |
金属有机物化学气相沉积系统 |
CCS 19X2 Flip Top |
| 84862021.00 |
金属有机物化学气相沉积台 |
E450LDM |
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