| 商品编码 |
84862021.00
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| 商品名称 |
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 |
| 商品描述 |
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置化学气相沉积装置(CVD) |
| 英文名称 |
Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis |
HS编码 84862021.00 申报实例信息,收录数 32 条
| HS编码
| 商品名称
| 商品规格
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| 84862021.00 |
气体混合柜成套散件/RESI |
化学气相沉积设备，将沉积薄膜的气体按照要求混合 |
| 84862021.00 |
化学气相沉积设备 |
CONCEPT ONE |
| 84862021.00 |
C-1淀积炉 |
型号C1 |
| 84862021.00 |
IC淀积炉 |
型号7000VTR,旧设备 |
| 84862021.00 |
钨膜化学气相沉积设备 |
C3 Altus NOVELLUS牌 |
| 84862021.00 |
太阳能减反射膜制造设备 |
Centrotherm牌,E2000 HT 410-4(4) |
| 84862021.00 |
(旧)常压化学气相沉积设备 |
在硅片表面上沉积一层二氧化硅薄膜;;Watkins-Johnson |
| 84862021.00 |
外延炉 |
用于半导体生产;使硅片上产生薄膜;LPE;PE2061S |
| 84862021.00 |
等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统主机 |
镀非晶和微晶膜,品牌:OERLIKON,型号:KAI MT |
| 84862021.00 |
等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统 |
用来镀非晶和微晶膜;品牌:OERLIKON SOLAR;型号:KAI MT |
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