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| 商品编码 | 84862021.00 |
| 商品名称 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 |
| 商品描述 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置化学气相沉积装置(CVD) |
| 英文名称 | Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis |
HS编码 84862021.00 申报实例信息,收录数 32 条
| HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
|---|---|---|
| 84862021.00 | 化学气相沉积系统(旧) | 用于LED晶片SIO2沉积制程|该机台使用电浆的辅助能 |
| 84862021.00 | PECVD硅片镀膜机(旧) | 在硅片表面形成氮化硅薄膜;镀膜;ROTH&RAU;无型号 |
所属分类及章节、品目
| 类目 | |
| 章节 | |
| 品目「8486」 | 专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置；本章注释九（三）规定的机器及装置；零件及附件 |
| 84862 | 制造半导体器件或集成电路用的机器及装置: |
| 8486202 | 薄膜沉积设备: |
| 84862021 | 化学气相沉积装置(CVD) |