| 商品编码 |
84862041.00
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| 商品名称 |
制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 |
| 商品描述 |
制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 |
| 英文名称 |
Dry plasma etching for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis |
HS编码 84862041.00 申报实例信息,收录数 42 条
| HS编码
| 商品名称
| 商品规格
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| 84862041.00 |
刻蚀机 |
(旧)1994年(制作半导体专用) |
| 84862041.00 |
干式蚀刻机 |
(制作半导体专用) |
| 84862041.00 |
电浆处理设备 |
IPC-1000,LINCO牌应用真空电浆技术利用气体离子化 |
| 84862041.00 |
干式蚀刻机 |
system100-ICP380 |
| 84862041.00 |
干法蚀刻设备 |
型号:FLEX 45 DD |
| 84862041.00 |
多晶硅蚀刻机/AMATC牌/用于晶圆生产蚀刻工艺 |
Centura 5200 Poly 8 inch |
| 84862041.00 |
金属蚀刻机/LAM牌 |
Alliance TCP9608PTX 2ch |
| 84862041.00 |
IC刻蚀机 |
型号P5000,旧设备 |
| 84862041.00 |
蚀刻机 |
型号:Centura 5200 |
| 84862041.00 |
氧化物蚀刻机 |
UNITY Ver 2 85DI |
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