| 商品编码 |
84862041.00
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| 商品名称 |
制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 |
| 商品描述 |
制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 |
| 英文名称 |
Dry plasma etching for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis |
HS编码 84862041.00 申报实例信息,收录数 42 条
| HS编码
| 商品名称
| 商品规格
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| 84862041.00 |
干式光阻去除机/Mattson牌 |
ASPEN-II ICP(Used tool) |
| 84862041.00 |
等离子体刻蚀机 |
M42200-2/UM |
| 84862041.00 |
深干法硅微结构离子刻蚀机 |
SYSTEM100ICP180 |
| 84862041.00 |
干法蚀刻机 |
NE-550 |
| 84862041.00 |
离子刻蚀微调机 |
SFE-6430C |
| 84862041.00 |
金属蚀刻机 |
TE-8500S ESC |
| 84862041.00 |
干法蚀刻装置 |
490利用等离子蚀刻 |
| 84862041.00 |
等离子体干法刻蚀机 |
2300型 LAM牌 |
| 84862041.00 |
多晶硅蚀刻机 |
TCP-9408SE/旧设备 |
| 84862041.00 |
等离子干法刻蚀机 |
EMAX CENTURA AP APPLIED牌 |
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